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母版的工藝技術之選擇
防偽的視覺特征來源于母版。母版技術的先進性和獨占性直接影響防偽的程度。由于眾所周知的原因，母版技術的普及程度越高，其防偽程度就變得越低。雖然全息圖不可能被復制，但是通過使用同一技術卻可以模仿其效果，相似的程度可以達到90%以上。對商品防偽而言，這就是一個無效的防偽。目前國內外普遍采用的母版生成技術主要為“二維/三維”和“數碼點陣”兩種。過去，市場一般都以為光學防偽技術（OVD）即全息圖，OVD光學防偽技術亦被廣泛應用于鈔票、護照、身份證等等的高度防偽上，但大部分均不屬于全息圖。
機械研磨的主要目的就是將顏料聚集體分散于連結料中，使之形成細顆粒的分散體。由于顏料是決定北京防偽標簽色彩和光學特性的關鍵，所以它不僅取決于對光的擴散與吸收，且這些與它的顆粒大小也有關。例如在相對條件下，北京防偽標簽沖淡后的飽和度(著色力)、色相等均與顏料顆粒的分散度有關，這是人所共知的。
由于顏料的化學組成與物理特性不同，故它們的分散性能也就各異。分散過程一般分三個階段，即(1)顏料聚集體開始潤濕，(2)顏料聚集體破碎成小顆粒，即聚集體被分離，(3)用連結料置換顏料顆粒表面的空氣，即顏料顆粒表面吸附的水或氣被潤濕介質所取代——在顏料顆粒表面附著潤濕介質。
后一個過程就是將立方體的頂面也浸入于液體中，這就是鋪展。在這個過程中，立方體的頂面被兩個新的表面積所替代，即一個液體表面和一個液—固界面。與鋪展有關的能量消耗為：雖然這里用一個一厘米3的立方體來說明分散過程中的各個階段，但它適用于所有的固體分散在液體(包括顏料分散在連結料)中的情況。將液體接觸角導入各種功的方程式上面提到的各種功的方程式雖然是比較真實的，但卻不太切合實際，因為固體表面以及固—液界面的表面**是不太容易測得的。
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